金刚石研磨抛光机设备特点：□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺。

精密磨抛机 平坦化 半导体研磨抛光机【晶圆精密研磨抛光机设备特点】□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺.

cmp化学机械抛光设备配备机械手臂1个，可上下卡塞。配备2个研磨单元，3腔控制。CMP研磨抛光机配备终点检测系统，可对每个工艺步骤的工艺参数进行编辑，按程序对晶片表面薄膜进行平坦化抛光。

量产型机械化学研磨抛光机【设备特点】□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺。

高精度研磨抛光机设备特点：□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺。

精密磨抛机 平坦化 半导体研磨抛光机【晶圆抛光机设备特点】□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺.

光纤端面研磨设备特点：□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺；

精密磨抛机/平坦化/半导体研磨抛光机【设备特点】□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺；

HS精密磨抛机整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求。可实现端面及角度研磨抛光工艺。磨抛盘转速0-200rpm连续可调。夹具转速0-120rpm连续可调。厚度去除在线控制，精度1μm。时间控制设置0...

精密研磨抛光机设备特点：□ 整机防腐，适应常规化学机械抛光耐腐蚀要求；□ 样片去除厚度在线实时监测，精度1μm；□ 可实现端面及角度研磨抛光工艺。